EDI超純水系統成品圖：

0.5噸超純水系統如圖上(主機尺寸：長：2300mm *寬：800mm *高：1700mm)

2噸edi超純水系統 如圖上(主機尺寸：長：2300mm *寬：1250mm *高：1700mm)

5噸超純水系統如圖上(主機尺寸：長：2500mm *寬：1500mm *高：100mm)

工業純水設備 詢價熱線：0755-2103 0293 （技術何工：181-4586-2853(微信damage4318) ）

edi超純水系統：

作為先進的超純水處理系統服務商，科大環保以膜分離、edi電除鹽等前沿的水處理技術開發及應用為主導，從事高精工業領域的純水、高純水及超純水的工藝設計、水處理系統的加工制造、安裝調試及技術培訓等業務，根據用戶的不同需求量身定制所需的加工、配制、清洗、冷卻等各工藝環節用水的整體水系統解決方案。

edi超純水系統性能穩定，其簡易性、自動化程度、生產的可持續性完全滿足工業超純水的嚴格要求；提供配套的新機生產、原機擴展、工藝改進、技術支持、運行維護等服務。

EDI超純水系統特點：

⊙ 產水水質高而穩定；

⊙ 連續不間斷制水，不因再生而停機；

⊙ 無需化學藥劑再生；

⊙ 設想周到的堆疊式設計，占地面積小；

⊙ 操作簡單、安全；

⊙ 運行費用及維修成本低；

⊙ 無酸堿儲備及運輸費用；

⊙ 全自動運行，無需專人看護。

純水處理技術的發展主要經歷了陰、陽離子交換器+混合離子交換器;反滲透+混合離子交換器;反滲透+電去離子裝置等階段。預處理 + 反滲透 + 電去離子整套除鹽系統，有著其他處理系統無可比擬的優點，正被廣泛應用于純水、高純水的制備中。

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EDI超純水系統應用領域：

⊙ 電子半導體材料、器件、電解電容生產鋁箔及工作件的清洗用水；

⊙ 顯像管、熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管徑的清洗用水；

⊙ 液晶顯示屏生產過程中清洗所用的配液用水；

⊙ 電子芯片生產中，主要用于清洗硅晶元，另有少量用于藥液配制及切割用水；

⊙ 集成電路生產中清洗硅片所用的高純水、高品質顯像管、熒光粉生產用水；

⊙ LCD、LED液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏工藝用水；

⊙ 光伏產品晶片切割制造及光電產品生產用水；

⊙ 蓄電池、鋰電池、太陽能電池生產用水；

⊙ 電鍍、涂裝、汽車、金屬及其他高端精密機械、精微產品表面處理用水；

⊙ 金屬、化工、生物等領域研究所用水；

⊙ 航天、天文、核電等軍工企業，科研單位生產加工用水。

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執行標準：

⊙ GB/T11446.1-1997《中國國家電子級水》

⊙ JB/T7621-1994《電力半導體器件工藝用高純水》

⊙ GB6682-2008《分析實驗室用水國家標準》

⊙  ASTM-D5127-2007《美國電子學和半導體工業用超純水標準》

⊙ GMP認證標準

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